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針對大流量CEDI系統(tǒng)設(shè)計的VNX膜堆作為一種清潔、環(huán)境友好的技術(shù)，相對需要化學(xué)藥劑再生的混床更有優(yōu)勢。采用大流量的CEDI膜堆可以使系統(tǒng)的配管更少，系統(tǒng)集成更簡單。
LX和VNX膜堆均采用平板式結(jié)構(gòu)設(shè)計，產(chǎn)水室和濃水室交替排布。平板式設(shè)計相對其它結(jié)構(gòu)的設(shè)計（如卷式）而言水流分布和電流分布更均勻。這對膜堆的性能表現(xiàn)和膜堆使用壽命都非常關(guān)鍵
無需化學(xué)藥劑再生
雙 O 型圈密封，保證不漏水
無需濃水循環(huán)
無需注鹽
100 psi，113 deg F (45 deg C) 下連續(xù)工作
采用專利的“全填充”集中隔箱，無需循環(huán)泵和注鹽
操作成本極低
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模塊規(guī)格 |
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產(chǎn)品流速，最小 m3/hr |
5.7 |
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產(chǎn)品流速，標(biāo)稱 m3/hr |
11.4 |
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產(chǎn)品流速，最大 m3/hr |
17.0 |
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操作參數(shù) |
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典型回收率 (%) |
90-95 |
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最大進(jìn)料壓力，bar |
7 |
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標(biāo)稱壓降，bar |
1.4-2.1 |
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進(jìn)料溫度 |
5 - 45°C |
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DC 電壓 |
0-600 |
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DC 安培數(shù) |
0-19.5 |
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產(chǎn)品水質(zhì)規(guī)格 |
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產(chǎn)品電阻率 |
>16 megohm-cm |
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二氧化硅 |
90 - 99%去除率 |
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