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針對大流量CEDI系統(tǒng)設(shè)計的VNX膜堆作為一種清潔、環(huán)境友好的技術(shù)，相對需要化學(xué)藥劑再生的混床更有優(yōu)勢。采用大流量的CEDI膜堆可以使系統(tǒng)的配管更少，系統(tǒng)集成更簡單。
LX和VNX膜堆均采用平板式結(jié)構(gòu)設(shè)計，產(chǎn)水室和濃水室交替排布。平板式設(shè)計相對其它結(jié)構(gòu)的設(shè)計（如卷式）而言水流分布和電流分布更均勻。這對膜堆的性能表現(xiàn)和膜堆使用壽命都非常關(guān)鍵
無需化學(xué)藥劑再生
雙O型圈密封保證不泄漏
無需濃水循環(huán)
無需注鹽系統(tǒng)
可在100psi，113F（45）下連續(xù)運行
專利保護(hù)的全填充式設(shè)計
低運行成本
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膜堆技術(shù)規(guī)格 |
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最低產(chǎn)水流量 gpm (m3hr) |
25 (5.7) |
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標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)水流量 gpm (m3hr) |
50 (11.4) |
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最高產(chǎn)水流量 gpm (m3hr) |
75 (17.0) |
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運行參數(shù) |
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典型回收率 (%) |
90-95% |
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最高供水壓力 psi (bar) |
100 psi (7 bar) |
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標(biāo)準(zhǔn)壓力降 psi (bar) |
20-30 psi (1.4-2.1 bar) |
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供水溫度 |
5-45°C (41-113 ° F) |
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直流電壓 |
0-600 VDC |
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直流電流 |
0-20 A |
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產(chǎn)水技術(shù)規(guī)格 |
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產(chǎn)水電阻系數(shù) |
>16 MΩ-cm |
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產(chǎn)水二氧化硅含量 |
90 - 99%去除率 |
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